Zum Werk Das Patentgesetz und das Gebrauchsmustergesetz stehen im Mittelpunkt des Gewerblichen
Rechtsschutzes und sind von großer Bedeutung für alle Patentanwältinnen und Patentanwälte mit
Patentstreitigkeiten befassten Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen die ihre
Erfindungen schützen wollen oder gegen Schutzanmaßungen Dritter vorgehen müssen. Der
Praxiskommentar verbindet das Patentrecht mit dem eng verwandten Gebrauchsmusterrecht.
Vorrangiger Bezugspunkt der Erläuterungen ist die Rechtsprechung sowohl der Instanzgerichte
des BPatG und des BGH als auch der Beschwerdekammern des Deutschen Patent- und Markenamtes und
des Europäischen Patentamts. Eine Stärke des Kommentars ist dass auch das Marken- und
Geschmacksmusterrecht das Recht des unlauteren Wettbewerbs und das Urheberrecht in die
Erläuterungen einbezogen sind. Vorteile auf einen Blickprägnant und
praxisorientiertrechtsprechungsorientiertwichtige Nebenvorschriften im Textanhang Zur
Neuauflage Die Neuauflage berücksichtigt u.a.:das Zweite Gesetz zur Vereinfachung und
Modernisierung des Patentrechts vom 10. August 2021 mit seinen zahlreichen und weitreichenden
Änderungenzahlreiche Entscheidungen des Bundesgerichtshofs der Instanzgerichte und des
Bundespatentgerichtswichtige Entscheidungen des Deutschen Patent- und Markenamts (DPMA) des
Europäischen Patentamts (EPA) des Bundesverfassungsgerichts (BVerfG) des Europäischen
Gerichtshofs (EuGH) und des Europäischen Gerichts erster Instanz (EuG)Maßgebliche
Entscheidungen der Instanzgerichte insbesondere Oberlandesgerichte Zielgruppe Für Rechts- und
Patentanwaltschaft Unternehmen Gerichte Referendarinnen und Referendare Assessorinnen und
Assessoren sowie sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in
Behörden.
