Die Ellipsometrie ist ein Messverfahren zur Oberflächencharakterisierung und Dünnschichtmessung
von ebenen Oberflächen unter Verwendung von polarisiertem Licht. Ein neues Messprinzip
basierend auf Lichtwegumkehrung und Retroreflexion ermöglicht jedoch die Erfassung von
beliebigen Freiformflächen. Dieses neue Messprinzip und damit verbundene Fragestellungen zur
Messabbildung Auswertealgorithmik und Mehrdeutigkeiten sowie Freiheitsgrade der Lösungsmenge
werden in dieser Arbeit untersucht. Ellipsometry is a measuring method for surface
characterization and thin-film measurement of flat surfaces using polarized light. However a
new measuring principle based on return-path ellipsometry and retroreflection enables the
detection of free-form surfaces. This new measurement principle and related questions regarding
the measurement function evaluation algorithms and ambiguities as well as degrees of freedom
of the solution set are examined in this work.
